
國(guó)際上空氣潔凈技術(shù)的發(fā)展
第一階段是朝鮮戰(zhàn)爭(zhēng)中美國(guó)發(fā)現(xiàn)其大量電子儀器失靈出故障,其中16萬個(gè)設(shè)備就需要一百多萬個(gè)替換電子元件,有84%的雷達(dá)失效,48%的水聲測(cè)位儀失效,陸軍65%~75%的電子設(shè)備失效,并且每年的維修費(fèi)用超出原價(jià)2倍,而5年中空軍電子設(shè)備的維修費(fèi)用是設(shè)備原價(jià)的10倍多。最終,美軍找到了主要原因是灰
塵作怪,這促成了空氣潔凈技術(shù)的起步,特別是高效過濾器的誕生。第二階段,1957年前蘇聯(lián)第一顆人造衛(wèi)星上天后,刺激美國(guó)加速發(fā)展宇航事業(yè),特別是阿波羅號(hào)登月,不僅精密機(jī)械加工和電子控制儀器要求凈化,而且為了從月球帶回巖石,對(duì)容器、工具的潔凈度有嚴(yán)格要求,其加工環(huán)境必須超凈,因而帶動(dòng)潔凈室技術(shù)和設(shè)備的大發(fā)展,出現(xiàn)了層流技術(shù)和百級(jí)潔凈室,出現(xiàn)了第一個(gè)潔凈室標(biāo)準(zhǔn)。
第三階段,1970年1K位的集成電路進(jìn)人大生產(chǎn)時(shí)期,中國(guó)不久也開始集成電路會(huì)戰(zhàn),使?jié)崈羰壹夹g(shù)得以騰飛。日本從20世紀(jì)60年代初到70年代空氣潔凈技術(shù)產(chǎn)品迅猛發(fā)展,1971年突然急劇降到低谷,但次年又突然飛速發(fā)展起來。這還和藥品生產(chǎn)對(duì)潔凈室的需求進(jìn)人新階段有關(guān),因?yàn)?969年世界衛(wèi)生組織正式制訂了GMP(藥品生產(chǎn)質(zhì)量管理規(guī)范)。
第四階段,20世紀(jì)80年代大規(guī)模和超大規(guī)模集成電路的發(fā)展進(jìn)一步促進(jìn)空氣潔凈技術(shù)的發(fā)展,其中集成電路上的最細(xì)光刻線條寬度進(jìn)人2~3um。20世紀(jì)70年代末和80年代初,美國(guó)、日本研制成了0.1m級(jí)超高效過濾器,于是既對(duì)潔凈室提出高要求,也有了高手段。1985年,日、美、西歐凈化產(chǎn)品總值約29億美元,1988年達(dá)到73億美元,到20世紀(jì)80年代末僅日本就突破5000億日元即35
億美元。
第五階段,即20世紀(jì)90年代之后。
1超大規(guī)模集成電路生產(chǎn)取得了新發(fā)展,20世紀(jì)80年代集成電路最細(xì)光刻線條寬度在微米級(jí),而80年代末和進(jìn)人90年代則達(dá)到亞微米級(jí),到20世紀(jì)末要求
為0.1~0.2pm,集成度達(dá)1KM。這是什么意思?剛才說過,1970年1K位電路進(jìn)入大生產(chǎn),相當(dāng)于約20mm2大的硅片上有2萬個(gè)左右元件,到了1986年1M集成度時(shí),就相當(dāng)于有200萬個(gè)元件,到1KM集成度時(shí)就可能有20億個(gè)元件集中在
一塊硅片上,詳見表1-1。

而要求控制的塵粒,今天要求0.1um 10級(jí)已很普通,將來則要求0.01um 10
級(jí)也并不是聳人聽聞的了。
半導(dǎo)體技術(shù)對(duì)潔凈室水平的要求發(fā)展歷程如下:
20世紀(jì)六七十年代,中小規(guī)模集成電路,0.5pm 100級(jí),相當(dāng)于現(xiàn)在的ISO
5級(jí);
20世紀(jì)70年代末,大規(guī)模集成電路,0.5pm 10級(jí),相當(dāng)于現(xiàn)在的ISO4級(jí);
級(jí)),相當(dāng)于現(xiàn)在的ISO3級(jí);
20世紀(jì)80年代末,超大規(guī)模集成電路,0.5pm 1級(jí)~0.1級(jí)(或0.1um 10
相當(dāng)于現(xiàn)在的ISO2級(jí);
20世紀(jì)90年代末,超大規(guī)模集成電路,0.5um 0.1級(jí)或0.1um 10級(jí)~1級(jí),
21世紀(jì)初,超大規(guī)模集成電路,0.1um 1級(jí)~0.1級(jí),相當(dāng)于現(xiàn)在的ISO
1級(jí)。
海灣戰(zhàn)爭(zhēng)和伊拉克戰(zhàn)爭(zhēng)使人們認(rèn)識(shí)到電子技術(shù)的極端重要性,可以說,潔
凈室技術(shù)是電子尖端技術(shù)的一大支柱。